光刻胶
抵抗
材料科学
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纵横比(航空)
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咬边
纳米光刻
各向同性腐蚀
氮化硅
单层
分辨率(逻辑)
作者
Juntao Shen,Kui Zhang,Wenbo Liu,Jingsong Wei,Yang Wang
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2026.110637
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