Monolithically Integrated Power Converter Based on Etching-Free p-GaN HEMTs by Hydrogen Plasma Treatment Technology

蚀刻(微加工) 材料科学 等离子体 光电子学 氮化镓 宽禁带半导体 功率(物理) 等离子体刻蚀 电气工程 化学 纳米技术 工程类 物理 有机化学 图层(电子) 量子力学
作者
Ang Li,Fan Li,Weisheng Wang,Yuhao Zhu,Wen Liu,G J Yu,Zhongming Zeng,Baoshun Zhang
标识
DOI:10.1109/ispsd59661.2024.10579682
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