Room temperature deposited highly conductive HfNx films for high-performance HfN/Si junction diodes

材料科学 二极管 光电子学 导电体 薄膜 工程物理 复合材料 纳米技术 工程类
作者
Amir Sohail Khan,Shahid Iqbal,Le Thai Duy,Ashish Kumar,Muhammad Waqas Khan,Mahesh Kumar,Hyungtak Seo
出处
期刊:Surfaces and Interfaces [Elsevier BV]
卷期号:53: 105045-105045 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.surfin.2024.105045
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