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A comprehensive study on the structural evolution of HfO2thin films doped with various dopants

哈夫尼亚 材料科学 掺杂剂 兴奋剂 铁电性 薄膜 相（物质） 纳米技术 光电子学 陶瓷 复合材料 有机化学 立方氧化锆 化学 电介质
作者
Min Hyuk Park,Tony Schenk,Chris M. Fancher,Everett D. Grimley,Chuanzhen Zhou,Claudia Richter,James M. LeBeau,Jacob L. Jones,Thomas Mikolajick,Uwe Schroeder
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [Royal Society of Chemistry]
日期：2017-01-01 卷期号：5 (19): 4677-4690 被引量：281
链接
osti.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/c7tc01200d
摘要
Quantitative phase analysis is first performed on doped Hafnia films to elucidate the structural origin of unexpected ferroelectricity.
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