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Quantitative analysis of effect of dopant interaction on microstructural, physical, and electrical properties in laser-annealed SiGe:B:Ga film

掺杂剂 材料科学 兴奋剂 电阻率和电导率 退火（玻璃） 薄板电阻 表面粗糙度 光电子学 微观结构 掺杂剂活化 半导体 接触电阻 纳米技术 复合材料 图层（电子） 电气工程 工程类
作者
Kiseok Lee,Seunghyun Baik,Joosung Kang,Hyerin Shin,Dongmin Yoon,So Young Kim,Jin-Woo Moon,Dong Chan Suh,Dae-Hong Ko
出处
期刊：Thin Solid Films [Elsevier BV]
日期：2022-03-07 卷期号：748: 139173-139173 被引量：4
标识
DOI：10.1016/j.tsf.2022.139173
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