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HfO2 Area Selective Deposition via Substrate-Dependent Area Selective Atomic Layer Etching

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作者
Landon Keller,Seung Keun Song,Hannah R. M. Margavio,Sarah E. Atanasov,Jiun-Ruey Chen,Gregory N. Parsons
出处
期刊：Chemistry of Materials [American Chemical Society]
日期：2025-02-24
标识
DOI：10.1021/acs.chemmater.4c03238
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