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Analysis of SEGR in Silicon Planar Gate Super-Junction Power MOSFETs

功率MOSFET 材料科学 平面的 MOSFET 光电子学 功率半导体器件 晶体管 电气工程 垂直的 栅氧化层 功率(物理) 场效应晶体管 电场 工程类 电压 物理 计算机科学 计算机图形学(图像) 量子力学 数学 几何学
作者
K. Muthuseenu,Hugh J. Barnaby,K.F. Galloway,A. E. Koziukov,Т. A. Maksimenko,Mikhail Yu. Vyrostkov,K. B. Bu-Khasan,А. А. Калашникова,A. Privat
出处
期刊:IEEE Transactions on Nuclear Science [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:68 (5): 611-616 被引量:24
标识
DOI:10.1109/tns.2021.3053168
摘要

This article compares and analyzes the single-event gate rupture (SEGR) response of silicon planar gate super-junction (SJ) power metal oxide semiconductor field effect transistors (MOSFETs) and vertical double diffused power MOSFETs (VDMOSs). When an incident heavy-ion strike is perpendicular to the gate oxide, the SEGR tolerances of SJ power MOSFETs (SJMOSs) and VDMOSs are similar. But, for heavy-ion strikes that are at different angles, SJMOS has better SEGR tolerance than VDMOS. This improved performance of SJMOS is due to the presence of an additional horizontal electric field component in SJMOS devices. This is validated using the experimental data and simulation results in this article.

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