Semi-Aromatic Polyimides with Low Dielectric Constant and Low CTE

材料科学 聚酰亚胺 电介质 热稳定性 聚合 热膨胀 高分子化学 BPDA公司 粘度 均苯四甲酸二酐 联苯胺 化学工程 聚合物 有机化学 复合材料 化学 图层(电子) 工程类 光电子学
作者
Masatoshi Hasegawa
出处
期刊:High Performance Polymers [SAGE Publishing]
卷期号:13 (2): S93-S106 被引量:71
标识
DOI:10.1088/0954-0083/13/2/309
摘要

Semi-aromatic polyimides (PIs) possessing simultaneously a low dielectric constant ( K) and low linear coefficient of thermal expansion ( CTE) were molecularly-designed. Two PI systems were focused on, i.e. the s-BPDA/CHDA polyimide derived from 3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride with trans-1,4-cyclohexanediamine and CBDA/TFMB derived from 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and bis(2,2′-trifluoromethyl)benzidine. In the s-BPDA/CHDA system, poly(amic) acid (PAA) polymerization using the common procedure was prevented by strong salt formation at the initial stage. However, heating the salt-forming reaction mixture at a selected temperature for a short period allowed the system to polymerize and resulted in a high-molecular-weight PAA (reduced viscosity η red > 2 dl g −1 ). On the other hand, in the CBDA/TFMB system, a high-molecular-weight PAA ( η red > 3 dl g −1 ) was readily obtained by choosing the solid content without any salt formation. The chosen PIs almost achieved the current goal; CTE < 20 ppm K −1 , K < 3.0, and T g > 300°C concurrently with adequate film flexibility. In particular, CBDA/TFMB accomplished a very low K (∼2.6). Although these PIs have a much lower thermo-oxidative stability than wholly aromatic PIs, the results suggested that there is no serious problem for the short-term thermal stability required for soldering processes.
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