Effect of temperature dependence on performance of Digital CMOS circuit technologies

CMOS芯片 消散 电子线路 MOSFET 超大规模集成 材料科学 速度饱和 数字电子学 饱和电流 电子工程 阈值电压 集成电路 电气工程 光电子学 晶体管 电压 工程类 物理 热力学
作者
Shruti Kalra
标识
DOI:10.1109/icspcom.2013.6719819
摘要

Aggressive technology scaling and an increasing demand of high performance VLSI circuits has resulted in higher current densities and increased power dissipation. A significant fraction of this power is converted to heat and an exponential rise in heat density is experienced. As a consequence, temperature measurement and control are critical tasks in many applications. Temperature variations often alter threshold voltage, carrier mobility and saturation velocity of MOSFET and thereby altering the performance of the CMOS circuits. This paper identifies the device parameters that characterize the variation of MOSFET current due to temperature fluctuations on 180nm CMOS technology. Further, the effect of temperature variation on performance of CMOS digital circuits and optimization of device parameters for temperature variation insensitive performance of the circuit is also presented.

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