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作者
Sang‐Young Lee,Hyo Kyeom Kim,Jong-Ho Lee,Il-Hyuk Yu,Jae‐Ho Lee,Cheol Seong Hwang
摘要
Variations in the (a) growth rate and (b) film density, measured via the XRR of the HfO2 films with O3 and H2O oxidants as a function of Ts (160–360 °C).
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