Closing the gap between n‐ and p‐type silicon heterojunction solar cells: 24.47% efficiency on lightly doped Ga wafers

薄脆饼 兴奋剂 材料科学 光电子学 异质结 太阳能电池 能量转换效率
作者
Adrien Danel,Nicolas Chaugier,Jordi Veirman,Renaud Varache,Mickaël Albaric,É. Pihan
出处
期刊:Progress in Photovoltaics [Wiley]
卷期号:31 (12): 1235-1244 被引量:11
标识
DOI:10.1002/pip.3635
摘要

Abstract Silicon heterojunction (SHJ) solar cells can be formed using n‐type or p‐type silicon wafers. To foster the increasing industrial interest of SHJ, cheaper p‐type wafers with a good availability might be preferred, but until today, they yield lower cell efficiency compared with n‐type and show instabilities in the particular case of boron doping. This work shows that the production flow of high performance rear‐junction bifacial n‐type cells can be applied to front‐junction p‐type cells without process alterations and with a loss of efficiency as low as −0.3% abs provided that the wafer bulk lifetime is high enough. For this, we propose the use of wafers with gallium doping on which we obtained on a semi‐industrial pilot line SHJ p‐type cells mostly stable under moderated heat and light and with an efficiency closed to n‐type references. The best p‐type cell was externally certified at 24.47% total area.
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