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The influence of electron-beam irradiation on electrical characteristics of metal–insulator–semiconductor capacitors based on a high-k dielectric stack of HfTiSiO(N) and HfTiO(N) layers

电介质 辐照 材料科学 电容 电容器 电子束处理 高-κ电介质 半导体 退火（玻璃） 堆栈（抽象数据类型） 光电子学 分析化学（期刊） 电压 电气工程 化学 复合材料 电极 物理 色谱法 工程类 计算机科学 物理化学 核物理学 程序设计语言
作者
P. Thangadurai,Wayne D. Kaplan,V. Mikhelashvili,G. Eisenstein
出处
期刊：Microelectronics Reliability [Elsevier BV]
日期：2009-05-13 卷期号：49 (7): 716-720 被引量：19
标识
DOI：10.1016/j.microrel.2009.04.003
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