Low temperature atomic layer deposition of SiO2 thin films using di-isopropylaminosilane and ozone

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作者
Young-Soo Lee,Dong-won Choi,Bonggeun Shong,Saeroonter Oh,Jin‐Seong Park
出处
期刊:Ceramics International [Elsevier BV]
卷期号:43 (2): 2095-2099 被引量:67
标识
DOI:10.1016/j.ceramint.2016.10.186
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