Quantum simulation investigation of work-function variation in nanowire tunnel FETs

纳米线 材料科学 工作职能 MOSFET 量子 凝聚态物理 光电子学 纳米技术 电压 物理 晶体管 量子力学 图层(电子)
作者
Yunhe Guan,Hamilton Carrillo-Nuñez,Vihar Georgiev,Asen Asenov,Feng Liang,Zunchao Li,Haifeng Chen
出处
期刊:Nanotechnology [IOP Publishing]
卷期号:32 (15): 150001-150001 被引量:3
标识
DOI:10.1088/1361-6528/abd125
摘要

Abstract The variability induced by the work-function variation (WFV) in p-type ultra-scaled nanowire tunnel FET (TFET) has been studied by using the Non-Equilibrium Green’s Function module implemented in University of Glasgow quantum transport simulator called NESS. To provide a thorough insight into the influence of WFV, we have simulated 250 atomistically different nanowire TFETs and the obtained results are compared to nanowire MOSFETs first. Our statistical simulations reveal that the threshold voltage ( V th ) variations of MOSFETs and TFETs are comparable, whereas the on-current ( I on ) and off-current ( I off ) variations of TFETs are smaller and higher, respectively in comparison to the MOSFET. Based on the results of the simulations, we have provided a physical insight into the variations of the I on and I off currents. Then, we compared the nanowire and Fin TFETs structures with different oxide thickness in terms of the WFV-induced variability. The results show that WFV has a strongest impact on the I off , and moderate effect on the I on and V th in nanowire TFET with smaller oxide thickness. Lastly, it is found that compared with the random discrete dopants, WFV is a relatively weaker variability source in ultra-scaled nanowire TFETs, especially from the point of view of I on variation.
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