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Stability requirements for two-beam interference lithography diffraction grating manufacturing

光学 全息术 材料科学 衍射 栅栏 平版印刷术 干涉测量 干扰(通信) 衍射光栅 衍射效率 计量学 抵抗 激光器 折射率 表面计量学 轮廓仪 光电子学 物理 表面粗糙度 计算机科学 图层(电子) 频道(广播) 复合材料 计算机网络
作者
Dennis Lehr,Tilman Glaser,Felix Koch
标识
DOI:10.1117/12.2277007
摘要

Reproducible manufacturing especially of large diffraction gratings using two-beam laser interference lithography gives rise to exceptional requirements on the stability of environmental conditions like temperature, air pressure, humidity, vibrations as well as a robust exposure setup using stable components, a highly coherent, frequency-stable laser and highquality optics. In our contribution, these requirements are reviewed systematically. The influences of atmospheric refractive index, laser frequency fluctuations, and thermomechanical drifts on the exposed dose contrast and hence on profile variations for surface-corrugated gratings are discussed. Moreover, mid-spatial frequency surface-errors of the used optical elements are identified as a main cause for local dose variations. Reasonable specifications for series manufacturing of grating masters are given and real-world measurement data from a holography laboratory is presented to illustrate the interplay between these different influences. This experimental data includes atomic force microscope scans of highgroove density resist gratings, spatially resolved diffraction efficiency measurements and moiré-interferometric measurements of the fringe stability. The results of our analysis are also useful for other holographic manufacturing facilities, including the manufacturing of surface and volume holographic optical elements of any kind.

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