材料科学
蚀刻(微加工)
抛光
表面粗糙度
碳化硅
硅
反应离子刻蚀
表面光洁度
各向同性腐蚀
图层(电子)
等离子体刻蚀
热氧化
光电子学
复合材料
纳米技术
作者
Kang-Il Lee,Dong Chan Seok,Soo Ouk Jang,Yong Sup Choi
出处
期刊:Thin Solid Films
[Elsevier BV]
日期:2020-05-11
卷期号:707: 138084-138084
被引量:11
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2020.138084
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