X-Ray Topography Characterization of Large Diameter AlN Single Crystal Substrates

材料科学 位错 同步加速器 Crystal(编程语言) 单晶 氮化物 晶界 单色 结晶学 光学 复合材料 图层(电子) 微观结构 化学 物理 计算机科学 程序设计语言
作者
Rafael Dalmau,J. Britt,Hao Fang,Balaji Raghothamachar,Michael Dudley,R. Schlesser
出处
期刊:Materials Science Forum 卷期号:1004: 63-68 被引量:9
标识
DOI:10.4028/www.scientific.net/msf.1004.63
摘要

Large diameter aluminum nitride (AlN) substrates, up to 50 mm, were manufactured from single crystal boules grown by physical vapor transport (PVT). Synchrotron-based x-ray topography (XRT) was used to characterize the density, distribution, and type of dislocations. White beam topography images acquired in transmission geometry were used to analyze basal plane dislocations (BPDs) and low angle grain boundaries (LAGBs), while monochromatic beam, grazing incidence images were used to analyze threading dislocations. Boule diameter expansion, without the introduction of LAGBs around the periphery, was shown. A 48 mm substrate with a uniform threading dislocation density below 7.0 x 10 2 cm -2 and a BPD of 0 cm -2 , the lowest dislocation densities reported to date for an AlN single crystal this size, was demonstrated.

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