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Electrochemical characterization of localized corrosion mechanism of ALD Al2O3-coated copper for microelectronic application

腐蚀微电子铜材料科学电化学图层（电子）冶金原子层沉积表征（材料科学）纳米技术电极化学物理化学

作者

Romain Haeffele,Sabrina Marcelin,Lucile Broussous,Lucie Mazet,Bernard Normand

出处

期刊：Corrosion Science [Elsevier]
日期：2024-05-14 卷期号：234: 112135-112135 被引量：7

链接

hal.sciencedoi.org

标识

DOI：10.1016/j.corsci.2024.112135

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