Low frequency PACVD of silicon-carbon alloys : Process study

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作者
L. Thomas,J. M. Badie,E. Tomasella,M. Ducarroir,R. Berjoan
出处
期刊:Journal de physique [Springer Science+Business Media]
卷期号:11 (PR3): Pr3-824
标识
DOI:10.1051/jp4:20013103
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