Influence of bias voltage on the hardness and toughness of CrAlN coatings via magnetron sputtering

材料科学 微观结构 溅射沉积 韧性 透射电子显微镜 复合材料 偏压 扫描电子显微镜 溅射 腔磁控管 氮化铬 氮化物 冶金 薄膜 电压 纳米技术 图层(电子) 电气工程 工程类
作者
Yu Xi Wang,Sam Zhang,Jyh‐Wei Lee,Wen Siang Lew,Bo Li
出处
期刊:Surface & Coatings Technology [Elsevier BV]
卷期号:206 (24): 5103-5107 被引量:99
标识
DOI:10.1016/j.surfcoat.2012.06.041
摘要

Chromium aluminum nitride (CrAlN) coatings were prepared via magnetron sputtering in a mixed Ar and N2 ambient. The effect of negative bias voltage (Vb) on the microstructure was investigated using a spectrum of characterizing techniques in terms of Glancing Angle X-ray Diffractometry, Field Emission Scanning Electron Microscopy and Transmission Electron Microscopy. As Vb increased from 50 to 260 V, hardness was improved from 10 to 26 GPa. Toughness grew at the same time and maximized at around 2 MPa·m1/2 when Vb = 210 V. Simultaneous improvements in hardness and toughness were attributed to the densified microstructure with refined grains and increased compressive stress.
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