Properties of Amorphous Silicon Prepared by Decomposition of Silane

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作者
D. Kaplan
出处
期刊:Physica Scripta [IOP Publishing]
卷期号:24 (2): 396-398 被引量:1
标识
DOI:10.1088/0031-8949/24/2/009
摘要

Hydrogenerated amorphous silicon is usually prepared by decomposition of silane at low temperature T < 400°C in a glow discharge environment. Recently we have explored a novel process involving thermal decomposition of silane around 600°C followed by post-hydrogenation in a hydrogen plasma. The physical properties of this type of film are discussed and compared to those of films prepared in the usual way.

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