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Effect of process parameters on oxidation-enhanced removal mechanisms of GaN in photoelectrochemical mechanical polishing

抛光过程（计算）材料科学化学机械平面化氧化法光电化学光电子学冶金计算机科学电化学化学工程化学工程类电极物理化学操作系统

作者

Yuewen Sun,Yueqin Wu,Shang Gao,Yang Zhao,Renke Kang,Zhigang Dong

出处

期刊：International Journal of Mechanical Sciences [Elsevier BV]
日期：2025-07-07 卷期号：302: 110583-110583 被引量：7

标识

DOI：10.1016/j.ijmecsci.2025.110583

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