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Controllable Simultaneous Bifacial Cu‐Plating for High‐Efficiency Crystalline Silicon Solar Cells

电镀(地质) 材料科学 薄脆饼 镀铜 晶体硅 太阳能电池 光电子学 电化学 电极 异质结 电镀 纳米技术 化学 图层(电子) 地质学 物理化学 地球物理学
作者
Can Han,Guangtao Yang,Paul Procel,Daragh O’Connor,Yifeng Zhao,Anirudh Gopalakrishnan,Xiaodan Zhang,Miro Zeman,Luana Mazzarella,Olindo Isabella
出处
期刊:Solar RRL [Wiley]
卷期号:6 (6) 被引量:6
标识
DOI:10.1002/solr.202100810
摘要

Bifacial (BF) copper‐plated crystalline silicon solar cell is an attractive topic to concurrently reduce silver consumption and maintain good device performance. However, it is still challenging to realize a high aspect ratio (AR) of the metal fingers. Herein, a new type of hybrid‐shaped Cu finger is electromagnetically fabricated in a BF plating process. Cyclic voltammetry is employed to disclose the electrochemical behaviors of cupric ions in monofacial and simultaneous BF Cu‐plating processes, such that the controllability of the plating process could be assessed. The optimal hybrid Cu finger is composed of a rectangular bottom part and a round top part, such that an utmost effective AR value of 1.73 is reached. In BF Cu‐plating, two sub‐three‐electrode electrochemical cells are employed to realize equal metal finger heights on both sides of the wafer. Compared to our low thermal‐budget screen‐printing metallization, the Cu‐plated silicon heterojunction devices show both optical and electrical advantages (based on lab‐scale tests). The champion BF Cu‐plated device shows a front‐side efficiency of 22.1% and a bifaciality factor of 0.99.
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