| 标题 |
  A distinctive material removal mode in chemical mechanical polishing besides chemical bonding and mechanical plowing: Shear slipping 相关领域
滑倒
化学机械平面化
抛光
材料科学
复合材料
剪切（地质）
化学键
剪切力
纳米技术
结构工程
工程类
化学
有机化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Friction 作者：Yushan Chen; Liuyue Xu; Yuan Wu; Liao Zhou; Yuting Wei; et al 出版日期：2025-04-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
学术文献互助
GingerF
邓佳鑫Alan
Moonpie
OsamaKareem
仰望喀纳斯的星空
arniu2008
无极微光
laber
loii
嘉心糖
molihuakai
平常丝
boson693
MP
Nature
张欢馨
MchemG
77
XQQDD
皖公网安备34019202002308
