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 Fast and realistic 3D feature profile simulation platform for plasma etching process 相关领域
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期刊：Journal of Physics D 作者：Yeong Geun Yook; Hae Sung You; Jae‐Hyeong Park; Won-Seok Chang; Deuk-Chul Kwon; et al 出版日期：2022-02-25 |
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