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Low-Temperature Layer-by-Layer Epitaxy of Ferroelectric Al 0.63 Sc 0.37 N Thin Films for Back-End-of-Line Integration 相关领域
材料科学
矫顽力
铁电性
薄膜
外延
脉冲激光沉积
光电子学
X射线光电子能谱
氮化物
非易失性存储器
金属有机气相外延
纤锌矿晶体结构
极化(电化学)
纳米技术
分子束外延
场效应晶体管
化学气相沉积
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| 其它 |
期刊:Nano Letters 作者:Chao Li; Dirui Wu; Mingqiang Cheng; Shuhua Ma; Zihao Lin; et al 出版日期:2025-11-05 |
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