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 Dual-pathway mechanism of Fe-doped CeO2 abrasives in photo-Fenton-assisted CMP of SiC 相关领域
化学机械平面化
材料科学
兴奋剂
抛光
键裂
碳化硅
催化作用
惰性
化学工程
半导体
表面粗糙度
硅
化学键
碳化物
半导体工业
纳米技术
冶金
研磨
表面光洁度
劈理（地质）
激进的
科技与社会
带隙
宽禁带半导体
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| 其它 | 期刊：Journal of Rare Earths |
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(2025-6-4)
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