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 Comparative study of AZPN114 and SAL601 chemically amplified resists for electron beam nanolithography 电子束纳米光刻用AZPN114和SAL601化学放大抗蚀剂的比较研究
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Zheng Cui; Annamaria Gerardino; M. Gentili; E. DiFabrizio; Phil D. Prewett 出版日期：1998-11-01 |
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