Regularization of inverse photomask synthesis to enhance manufacturability

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标题	Regularization of inverse photomask synthesis to enhance manufacturability 反向光掩模合成的规则化以提高可制造性相关领域可制造性设计光掩模计算机科学正规化（语言学）反向光学接近校正反问题平版印刷术人工智能材料科学光电子学纳米技术机械工程数学几何学图层（电子）抵抗工程类数学分析
网址	https://doi.org/10.1117/12.837512
DOI	10.1117/12.837512 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Ningning Jia; Alfred K. K. Wong; Edmund Y. Lam 出版日期：2009-12-03
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