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标题
Preparation Technologies of LPCVD Silicon Nitride Films
LPCVD氮化硅薄膜的制备技术
相关领域
化学气相沉积 微电子 材料科学 氮化硅 硅 机车 半导体 微电子机械系统 纳米技术 光电子学
网址
http://dx.doi.org/10.3321/j.issn:0438-0479.2004.z1.078
AI链接 cnki.com.cn
DOI
10.3321/j.issn:0438-0479.2004.z1.078 doi
求助人
小巧紊 在 2025-07-27 21:55:42 发布自北京，悬赏 10 积分
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