Gas barrier properties of SiON films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition at low temperature as a function of the plasma process parameters

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标题	Gas barrier properties of SiON films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition at low temperature as a function of the plasma process parameters
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2012.05.009
DOI	10.1016/j.surfcoat.2012.05.009 doi
其它	期刊：Surface & Coatings Technology 作者：Su B. Jin; Joon S. Lee; Yoon Seok Choi; In Suk Choi; Jeon G. Han 出版日期：2012-05-12
求助人	2d3y 在 2026-07-20 15:54:46 发布自江苏，悬赏 10 积分
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