Coupling interfacial chemistry and temperature for anisotropy-enhanced sidewall evolution in silicon dioxide wet etching

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标题	Coupling interfacial chemistry and temperature for anisotropy-enhanced sidewall evolution in silicon dioxide wet etching
网址	http://dx.doi.org/10.1039/d6nr01509c
DOI	10.1039/d6nr01509c doi
其它	期刊：Nanoscale 作者：Jinmeng Shi; Aixi Pan; Rebecca Mac; Md Fahim Al Fattah; Zbig Wasilewski; et al 出版日期：2026-01-01
求助人	不想搞科研在 2026-07-24 10:54:05 发布自湖北，悬赏 10 积分
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