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Post-Treatment of Monolayer MoS2 Field-Effect Transistors with H2O Vapor: Alleviation of Remote Channel Doping 相关领域
范德瓦尔斯力
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期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Hee-Soo Lee; Byeongchan Kim; Minseo Jang; Seongdae Kwon; D. H. LEE; et al 出版日期:2025-01-07 |
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