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 Plasma Etch Variation Control in Double Patterning Based Metal Hard Mask Open Process 基于双图案化的金属硬掩模开放工艺中等离子体刻蚀变化的控制
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期刊：Meeting abstracts 作者：Shijing Wang; Da-Lin Yao; Jingyong Huang; Minda Hu; Ke-Fang Yuan; et al 出版日期：2018-04-13 |
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