Growth of TiSiN Films by Room-Temperature Reactive Magnetron Sputtering

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标题	Growth of TiSiN Films by Room-Temperature Reactive Magnetron Sputtering 室温反应磁控溅射生长TiSiN薄膜相关领域溅射材料科学溅射沉积腔磁控管化学工程分析化学（期刊）化学纳米技术薄膜环境化学工程类
网址	https://doi.org/10.1134/s0020168524700948
DOI	10.1134/s0020168524700948 doi
其它	期刊：Inorganic Materials 作者：V. S. Sulyaeva; Mikhail M. Syrokvashin; A. K. Kozhevnikov; Е. N. Ermakova 出版日期：2024-06-01
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