Gas-phase etching mechanism of silicon oxide by a mixture of hydrogen fluoride and ammonium fluoride: A density functional theory study

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标题	Gas-phase etching mechanism of silicon oxide by a mixture of hydrogen fluoride and ammonium fluoride: A density functional theory study
网址	http://dx.doi.org/10.1116/6.0002433
DOI	10.1116/6.0002433 doi
求助人	ouyangxuanwan 在 2026-09-08 23:26:20 发布自河北，悬赏 10 积分
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