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标题
Optimization of Ion Beam-Assisted Deposition Process for Y2O3 Film to Enhance Plasma Resistance
优化离子束辅助沉积Y2 O3薄膜工艺提高等离子体抵抗能力
相关领域
材料科学 分析化学（期刊） 离子束辅助沉积 原子层沉积 蚀刻（微加工） 沉积（地质） 薄膜 离子束 离子 纳米技术 化学 图层（电子） 生物 色谱法 古生物学 有机化学 沉积物
网址
http://dx.doi.org/10.3365/KJMM.2024.62.5.340
AI链接 kjmm.org kjmm.orgdoi.org
DOI
10.3365/KJMM.2024.62.5.340 doi
求助人
一只烊 在 2025-09-16 16:36:17 发布自江苏，悬赏 10 积分
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