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标题
Charge redistribution to reduce contact resistivity in NiSi/Si system through interface modification: A first-principles study
通过界面修饰降低NiSi/Si系统接触电阻率的电荷再分布:第一性原理研究
相关领域
再分配(选举) 电阻率和电导率 材料科学 接口(物质) 电荷(物理) 凝聚态物理 工程物理 电气工程 复合材料 物理 工程类 润湿 坐滴法 量子力学 政治 政治学 法学
网址
DOI
10.1063/5.0251483 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Miaojia Yuan; Maokun Wu; Yichen Wen; Yilin Hu; Xuepei Wang; et al
出版日期:2025-03-01
求助人
orange 在 2025-09-20 13:34:48 发布自中国,悬赏 10 积分
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