Charge redistribution to reduce contact resistivity in NiSi/Si system through interface modification: A first-principles study

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标题	Charge redistribution to reduce contact resistivity in NiSi/Si system through interface modification: A first-principles study 通过界面修饰降低NiSi/Si系统接触电阻率的电荷再分布：第一性原理研究相关领域再分配（选举）电阻率和电导率材料科学接口（物质）电荷（物理）凝聚态物理工程物理电气工程复合材料物理工程类润湿量子力学政治坐滴法政治学法学
网址	https://doi.org/10.1063/5.0251483
DOI	10.1063/5.0251483 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Miaojia Yuan; Maokun Wu; Yichen Wen; Yilin Hu; Xuepei Wang; et al 出版日期：2025-03-01
求助人	orange 在 2025-09-20 13:34:48 发布自中国，悬赏 10 积分
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