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标题
Ultimate patterning limits for EUV at 5nm node and beyond
EUV在5nm节点及以上的最终图案化极限
相关领域
极紫外光刻 桥接（联网） 节点（物理） 块（置换群论） 材料科学 过程（计算） 计算机科学 多重图案 GSM演进的增强数据速率 纳米技术 抵抗 工程类 结构工程 人工智能 几何学 数学 图层（电子） 操作系统 计算机网络
网址
https://doi.org/10.1117/12.2297412
DOI
10.1117/12.2297412 doi
其它 期刊：
作者：Neal Lafferty; Rehab Kotb; Ahmed Hamed Fatehy; James Word
出版日期：2018-03-20
求助人
JenniferShen 在 2025-10-27 08:13:38 发布自湖北，悬赏 20 积分
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