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标题
Amidoxime-Containing Zr and Hf Atomic Layer Deposition Precursors for Metal Oxide Thin Films
用于金属氧化物薄膜的含偕胺肟Zr和Hf原子层沉积前驱体
相关领域
同音 热重分析 化学 环戊二烯基络合物 热稳定性 原子层沉积 金属 单体 蒸发 无机化学 结晶学 逐层 图层(电子) 有机化学 催化作用 聚合物 物理 热力学
网址
DOI
10.1021/acs.inorgchem.3c03455 doi
其它 期刊:Inorganic Chemistry
作者:Ga Yeon Lee; Seunghun Lee; In Ho Jo; Chan‐Mi Cho; Svetlana Shostak; et al
出版日期:2023-12-18
求助人
Zyj 在 2025-08-26 15:30:56 发布自福建,悬赏 10 积分
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