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Optical Emission Analysis of a Si(CH3)4-Argon Radio Frequency Plasma for SiC Films Deposition 相关领域
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期刊:Journal de Physique IV (Proceedings) 作者:M. Andrieux; J. M. Badie; C. Bisch; M. Ducarroir; F. Teyssandier 出版日期:1995-06-01 |
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