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Optical Emission Analysis of a Si(CH3)4-Argon Radio Frequency Plasma for SiC Films Deposition

氩沉积（地质）等离子体材料科学无线电频率分析化学（期刊）原子物理学化学物理核物理学环境化学电信古生物学沉积物计算机科学生物

作者

M. Andrieux,J. M. Badie,C. Bisch,M. Ducarroir,F. Teyssandier

出处

期刊：Journal de physique [Springer Science+Business Media]
日期：1995-06-01 卷期号：05 (C5): C5-614

链接

archives-ouvertes.fr archives-ouvertes.fr archives-ouvertes.fr hal.science psu.edu archives-ouvertes.frdoi.org

标识

DOI：10.1051/jphyscol:1995572

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