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 Damage-free substrate removal technique: wet undercut etching of semipolar 202¯1 laser structures by incorporation of un/relaxed sacrificial layer single quantum well 相关领域
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Arwa Saud Abbas; Ahmed Y. Alyamani; Shuji Nakamura; Steven P. DenBaars 出版日期：2021-03-30 |
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