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标题
Molybdenum Thin Film Formation from Molybdenum Nitride Deposited by Plasma-enhanced Atomic Layer Deposition with Hydrogen-permeable Mechanical Capping Layer
等离子体增强原子层沉积氮化钼形成钼薄膜
相关领域
钼 材料科学 原子层沉积 薄膜 退火（玻璃） 氢 图层（电子） 沉积（地质） 氮化物 化学工程 冶金 无机化学 复合材料 纳米技术 化学 古生物学 有机化学 沉积物 工程类 生物
网址
https://doi.org/10.1021/acsaelm.3c00711
DOI
10.1021/acsaelm.3c00711 doi
其它 期刊：ACS applied electronic materials
作者：Jeong Hyeon Park; Ye Won Kim; Myeong Ho Kim; Jinsik Kim; Woojin Jeon
出版日期：2023-07-27
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YJYLU 在 2025-10-29 10:02:36 发布自湖北，悬赏 10 积分
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