| 标题 |
 Inherently area-selective atomic layer deposition for the fabrication of 2D and 3D nanostructures 用于制造2D和3D纳米结构的固有面积选择性原子层沉积
相关领域
制作
原子层沉积
钝化
材料科学
纳米结构
纳米技术
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图层（电子）
蚀刻（微加工）
沉积（地质）
氟
光电子学
化学工程
碳纤维
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等离子体刻蚀
X射线光电子能谱
化学气相沉积
薄膜
原子层外延
干法蚀刻
硅
选择性
表面改性
纳米光刻
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| DOI |
10.1016/j.apsusc.2025.16569
doi
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10.1016/j.apsusc.2025.165699
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