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标题
Point-defect management in homoepitaxially grown Si-doped GaN by MOCVD for vertical power devices
垂直功率器件用MOCVD同外延生长掺硅GaN的点缺陷管理
相关领域
金属有机气相外延 兴奋剂 电源插座 材料科学 点（几何） 功率（物理） 外延 光电子学 纳米技术 物理 心理学 数学 几何学 量子力学 数学教育 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.35848/1882-0786/ac6566
DOI
10.35848/1882-0786/ac6566 doi
其它 期刊：Applied Physics Express
作者：Shashwat Rathkanthiwar; Pegah Bagheri; Dolar Khachariya; Seiji Mita; Spyridon Pavlidis; et al
出版日期：2022-04-14
求助人
bb 在 2025-12-05 18:32:13 发布自四川，悬赏 10 积分
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