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标题
The future of EUV lithography: enabling Moore's Law in the next decade
EUV光刻的未来：在未来十年实现摩尔定律
相关领域
极紫外光刻 计算机科学 数值孔径 镜头（地质） 平版印刷术 计量学 光学（聚焦） 极端紫外线 覆盖 光圈（计算机存储器） 扫描仪 光学 通过镜头测光 抵抗 物理 材料科学 纳米技术 工程类 人工智能 机械工程 激光器 程序设计语言 图层（电子） 波长
网址
https://doi.org/10.1117/12.2261079
DOI
10.1117/12.2261079 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：Alberto Pirati; Jan van Schoot; Kars Troost; Rob van Ballegoij; Peter Krabbendam; et al
出版日期：2017-03-27
求助人
乐正三问 在 2025-12-26 15:50:19 发布自上海，悬赏 20 积分
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