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Atomistic Simulation of the Ion-Assisted Deposition of Silicon Dioxide Thin Films
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网址
DOI
10.3390/nano12183242 doi
其它 期刊:Nanomaterials
作者:F. V. Grigoriev; В. Б. Сулимов; Alexander V. Tikhonravov
出版日期:2022-09-19
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