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 Nonconventional growth characteristics of tin silicon oxide grown by thermal atomic layer deposition using H2O as oxidant 相关领域
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期刊：The Journal of Chemical Physics 作者：Sanghun Lee; Namkyu Yoo; Seunggi Seo; Tae Hyun Kim; Seonyeong Park; et al 出版日期：2025-08-18 |
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