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Argon plasma inductively coupled plasma reactive ion etching study for smooth sidewall thin film lithium niobate waveguide application
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网址
DOI
10.1016/j.optmat.2015.12.040 doi
其它 期刊:Optical Materials
作者:Gwenn Ulliac; Venancio Calero; Abdoulaye Ndao; F.I. Baida; M.-P. Bernal
出版日期:2016-01-06
求助人
ChangyuHu 在 2026-05-13 14:53:36 发布自湖北,悬赏 10 积分
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